光的干涉與繞射實驗

 光的干涉與繞射實驗

產品名稱 : 光的干涉與繞射實驗
產品說明 :
光的干涉和繞射現像是波動光學的重要組成部分。光干涉現象曾經是奠定光波動的基石,在波動光學上具有重要意義。而光衍射現像是光束傳播過程中無法用幾何光學解釋的現象,是光波動的主要標誌之一。光干涉和繞射的研究不僅有助於進一步加深對光波動性的認識,而且有助於進一步研究現代光學實驗技術,如光譜分析、晶體結構分析、全像術、光資訊處理等。本實驗採用單縫、多縫、圓孔、方孔等同時進行,可以清楚地表現出衍射和乾涉的特性,並且採用光強度分佈檢測器來測量光強度的相對分佈,使得提供實時光強與位置關係曲線。同時借助面陣相機,可以輕鬆實現實驗的數位化,研究衍射影像的二維光強度分佈。

產品規格

實驗內容

a) 基礎知識
1. 研究雷射透過雙縫形成的干涉圖樣,測量雙縫形成的干涉光強度分佈,論證干涉條紋最大位置與理論預測的一致性。  
2. 研究雷射透過單縫形成的衍射圖樣,測量單縫形成的衍射強度分佈,並論證衍射條紋最小位置與理論預測的一致性。

b) 增強型
研究雷射透過多縫所形成的干涉圖樣,了解多縫繞射和多光束干涉的原理。

c) 高級
觀察雷射透過圓形和方形孔徑的繞射情況,並透過面陣相機研究繞射影像的二維光強度分佈。

d) 最高階
利用COMS相機研究雷射穿過多孔體形成的衍射圖樣以及衍射影像的二維光強度分佈。

 
產品型號 產品說明 價格(NTD) 產品數量
0 YGP-6213 光的干涉與繞射實驗 -